阅读设置
样品与前置条件
- 有代表性的观察表面及材料、热处理背景。
- 目标尺度、目标角灵敏度、相候选与设备几何记录。
建议工作流
- 按宏观织构、细组织、局部梯度或 HR-EBSD 明确采集目标。
- 检查各相与代表区域的表面状态,避免只在一处好花样上优化。
- 确认相库、晶格参数、反射与 PC 约定,保存代表性原始花样。
- 选择电压、束流、曝光和探测器合并像素,说明它们与目标信息的关系。
- 按有效分辨率和组织尺度选步长,按独立晶粒数与非均匀性选范围。
- 记录扫描方向、时长、漂移和坐标;需要重索引或 HR-EBSD 时保存原始花样。
- 先审查质量与空间异常,再进入后处理;别用清理替代根本采集问题。
结果怎么解释
- 索引率高不证明 PC、相或坐标正确。
- 步长、空间分辨率、角精度和视场代表性各有不同含义。
局限与常见误区
- 旧书中的设备速度与数值设置不作为当前通用标准。
- 制样损伤或扫描漂移可能形成系统偏差。
标准与权威来源
请在正式试验前核对适用产品标准、设备 SOP 和标准的现行版本。
Olaf Engler; Stefan Zaefferer; Valerie Randle:《Introduction to Texture Analysis: Macrotexture, Microtexture, and Orientation Mapping》(2024,第 3 版)对应原理与参数解释见本专题完整推导正文;软件操作以所用版本帮助为准。↗Valerie Randle:《Microtexture Determination and Its Applications》(2003,第 2 版;所供本含 2008 年平装版说明)对应原理与参数解释见本专题完整推导正文;软件操作以所用版本帮助为准。↗Yu H. Chen; Se Un Park; Dennis Wei; Greg Newstadt; Michael A. Jackson; Jeff P. Simmons; Marc De Graef; Alfred O. Hero (2015). A Dictionary Approach to Electron Backscatter Diffraction Indexing对应原理与参数解释见本专题完整推导正文;软件操作以所用版本帮助为准。↗