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01

样品与前置条件

  1. 取样区域、相、晶粒/像素权重和独立视场。
  2. 目标统计量、空间相关和边缘/未索引规则。
02

建议工作流

  1. 先写抽样总体与单位，决定按材料位置还是按晶粒计数。
  2. 检查空间相关、重复像素和视场内聚集；不要把N像素当N个独立试验。
  3. 对分数或均值写清分母、方差模型和置信区间条件；有聚集时采用视场/晶粒层级思考。
  4. 分别构造邻接、非相关和随机错取向参考；计算角轴时统一对称代表。
  5. 选择分箱或核宽后记录有效数量、权重与不确定性，不以更平滑的曲线冒充更多信息。
  6. 在报告中把取样误差、索引误差和材料真实不均匀性分开解释。
03

结果怎么解释

  1. 更多同晶粒像素可改进内部描绘，却不会等比例增加独立晶粒统计。
  2. 邻接分布与随机基线不同，可能先来自总体织构。
04

局限与常见误区

  1. 仅凭有限地图无法证明总体无偏。
  2. 置信公式需要对应抽样模型，不能机械套用二项分布。

标准与权威来源

请在正式试验前核对适用产品标准、设备 SOP 和标准的现行版本。